光刻胶用氨基树脂_光刻胶用氨基树脂_东莞市艾澜德新材料有限公司

化工系列

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光刻胶用氨基树脂

产品详情

光刻胶体系

环化橡胶-双叠氮负胶（紫外全铺300-4590nm）→2um以上集成电路和半导体器件

酚醛（氨基）-重氮（G线436nm） → 0.5um以上集成电路

萘醌正胶（I线365nm） → 0.35-0.5um集成电路

聚对羟基苯乙烯及其衍生物（KrF248nm） → 0.12-0.25um集成电路

聚酯环族丙烯酸及共聚物（ArF193nm干法） → 65-130um集成电路（ ArF193nm干法） →45nm、32nm集成电路

聚酯衍生物分子玻璃单组份材料（EUV13.5nm） → 32nm、22nm

光刻胶-氨基产品类型

氨基树脂使用方向：

聚焦于负型光阻 (＞10nm)

若精密度太高达纳米等级，受限与精密度&分辨率，应寻求正型光阻小可达3nm的解决方案。

UV配方才是所有光阻剂的主角

氨基树脂仅为辅助角色用，用于增加密着及防护效果。

需跳脱传统氨基树脂需搭配酸催化剂(ex.Cycat 4040)之框架，UV光阻配方中吸收紫外光(能量)下，用于显影的光致酸剂(酸)及后期烘烤(能量)亦达成交联效果。光酸剂目前早期为胶卷底底片显影使用，目前技术掌握在：日本富士Fuji, 伊士曼 Eastman(柯达 Kodak), 默克Merck。

光阻剂两大趋势

干膜：减低VOC &甲醛

正型：更佳的分辨率, 精密度

产品信息

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